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चित्र:Ion implanter schematic.png

Ion_implanter_schematic.png ((500 × 486 पिक्सेल, फ़ाइल का आकार: 32 KB, MIME प्रकार: image/png))

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कॉमन्स मुक्त लाइसेंसों के अंतर्गत उपलब्ध मीडिया फ़ाइलों का संग्रह है। आप भी इसमें मदद कर सकते हैं।

सारांश

विवरण
English: Schematics of an mass separating implantation/deposition setup. Ion energy at the substrate is determined by the difference of Uaccell and Udecell. Image created using Tgif.
दिनांक
स्रोत अपना कार्य
लेखक Daniel Schwen
दूसरे संस्करण
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लाइसेंस

GNU head इस दस्तावेज़ को Free Software Foundation द्वारा प्रकाशित GNU मुक्त प्रलेख लाइसेंस के संस्करण 1.2 या नए (बिना किसी अपरिवर्तनीय अनुभागों और अगले या पिछले आवरण के टेक्स्ट के) के अंतर्गत प्रतिलिपि बनाने, बाँटने और/या बदलने की अनुमति प्रदान की जाती है। इस लाइसेंस की एक प्रतिलिपि GNU मुक्त प्रलेख लाइसेंस नामक अनुभाग में शामिल है।
w:hi:क्रिएटिव कॉमन्स
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आप खुलकर:
  • बाँट सकते हैं – रचना की प्रतिलिपि बना सकते हैं, बाँँट सकते हैं और संचारित कर सकते हैं
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  • श्रेय – यह अनिवार्य है कि आप यथोचित श्रेय प्रदान करें, लाइसेंस की कड़ी प्रदान करें, और अगर कोई बदलाव हुए हों तो उन्हें इंगित करें। आप ऐसा किसी भी उचित तरीके से कर सकते हैं, लेकिन किसी भी तरह उससे यह नहीं संकेत नहीं किया जाना चाहिए कि लाइसेंसधारी द्वारा आपको अथवा आपके इस प्रयोग का समर्थन किया जा रहा हो।
  • समानसांझा – अगर आप इस रचना में कोई बदलाव करते हैं या इसपर आधारित कुछ रचित करते हैं तो आप अपने योगदान को सिर्फ इसी या इसके सामान किसी लाइसेंस के अंतर्गत बाँट सकते हैं।
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दिनांक/समयथंबनेलआकारसदस्यप्रतिक्रिया
वर्तमान21:48, 3 जुलाई 200521:48, 3 जुलाई 2005 के संस्करण का थंबनेल संस्करण500 × 486 (32 KB)DschwenSchematics of an mass separating en:ion implantationimplantation/deposition setup. Ion energy at the substrate is determined by the difference of U<sub>accell</sub> and U<sub>decell</sub>. Image created by user:Dschwen u

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